Фоторезисты AZ компании Merck Performance Materials (AZ Electronic Materials)
Компания Merck Performance Materials (AZ Electronic Materials) является одной из ведущих среди производителей специальных химических материалов для фотолитографии высокого качества и чистоты.
Немецкая компания Merck KGaA расширила свое подразделение специализированных химических веществ за счет приобретения компании AZ Electronic Materials SA, зарегистрированной в Великобритании.
Продукция компании позволяет производить интегральные микросхемы и плоские дисплеи, входящие в состав широкого спектра электронных устройств и изделий, включая компьютеры, телевизоры с плоскими экранами, телекоммуникационные устройства, изделия промышленного назначения, автомобильной электроники и прочей потребительской и промышленной продукции.
Скачать Техническую информацию о фоторезистах, проявителях и удалителях
Фоторезисты AZ
|
Серия
|
Фоторезист
|
Толщина пленки, мкм |
Проявители |
Средства удаления |
Области применения |
|
Позитивный тонкий |
≈ 0.5 ≈ 1.0 - 1.5 ≈ 1.5 - 2.5 |
AZ® 351B, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF |
AZ® 100 Remover, TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5 |
Общее предложение, резисты для нанесения мокрого травления и нанесения покрытий |
|
|
Позитивный толстый |
(520CP) |
≈ 5 - 20 |
AZ® 400K, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF |
AZ® 100 Remover, TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5 |
Толстые фоторезисты для нанесения покрытий и травления. Применение: Припой, Cu, Au |
|
Позитивный тонкий |
AZ® 701 MiR (14 cPs)
|
≈ 0.8
|
AZ® 351B, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF |
Для сухого травления; высокое разрешение Фоторезисты с высоким разрешением, быстрые и экономичные, предназначены для замены старых резистов среднего класса производства. |
|
|
Позитивный толстый |
>30 |
AZ® 400K, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF |
Толстый фоторезист с усилением для травления и нанесения покрытий. Применение: Травление, припой,Cu Струйный принтер |
||
|
Негативный
|
≈ 6 - 15 |
AZ® 326B, AZ® 726 MIF, AZ® 826 MIF |
TechniStrip® Micro D2 TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5 |
Термостойкие негативные. Для электронной литографии
|
|
|
Позитивный Негативный |
1-2 |
AZ 351B, AZ 726 |
AZ 100 Remover |
Обратная (взрывная) литография (lift-off) 310 — 420 нм Отрицательный наклон боковых стенок, высокая температурная стабильность, низкая дегазация в вакууме. |
Фоторезисты AZ
| Название | Краткое описание | ||
|
Фоторезист AZ® 10XT
|
Жидкий позитивный фоторезист повышенной толщины |
||
|
Фоторезист AZ1505
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ® 40XT-11D
|
Жидкий позитивный фоторезист повышенной толщины с химическим усилением |
||
|
Фоторезист AZ1512 HS
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ® MIR 701
|
Жидкий позитивный фоторезист общего назначения с высоким разрешением |
||
|
Фоторезист AZ1518
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ® nLOF™ 2000
|
Жидкий негативный фоторезист, разработан для упрощения сложных процессов переворота изображений и для многослойной взрывной литографии. |
||
|
Фоторезист AZ1514 H
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
