ALPHO LIP650F — это негативный, водопроявляемый сухой плёночный фоторезист, который лучше всего подходит для получения изображения внешнего слоя печатных плат.
Используется для кислотного и щелочного травления.
ALPHO LIP650F применяется в установках прямого экспонирования i-line и h-line со стандартными УФ- лампами.
Скачать Технологический паспорт
ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА:
- Это высокочувствительный фоторезист;
- Отличная устойчивость к кислотному и щелочному травлению;
- Отличная адгезия к поверхности;
- Отличное разрешение линий;
- Низкая энергия воздействия;
- Благодаря своей гибкости и прочности, он обеспечивает надежную перекрываемость отверстий;
- Благодаря низкому образованию накипи предотвращает загрязнение проявочного раствора.
РАЗМЕРЫ:
• Толщина фотослоя: 50 мкм;
• Ширина рулона: 0,305 м и 0,610 м
Другая ширина рулонов поставляется по запросу.
• Минимальный заказ — 1 коробка (2 рулона).
